PLATIT Pi1511 – 技术领先的涂层设备

Pi1511是一台大容量的PVD涂层设备。它在门上配置了三支旋转的PLATIT LARC®XL阴极,在腔室后方配置两支平面电弧阴极。

柱状阴极与高性能平面阴极的结合,使沉积的PLATIT特征涂层具有高度的灵活性。LARC®XL阴极具有很长的使用寿命,从而保证了单支刀具上的低涂层成本。

技术

  • 在门上的3 支 LARC® XL (侧向旋转超长阴极)
  • 在腔室后方的2 支 平面阴极用于电弧涂层
  • 用于磁场自动调节的MAC-3C(磁弧约束-线圈电流补偿
  • 快速阴极更换
  • 沉积选择的PLATIT代表性涂层

运用到的刻蚀技术

几种蚀刻技术都可在Pi1511涂层设备使用,各具优点:

  • LGD® (侧向辉光放电)
  • Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
  • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

装载和运行周期

  • 最大涂层区域:ø 715 x H 805 mm
  • 获得指定涂层厚度的最大涂层高度:711 mm
  • 最大载重:750 kg,根据要求增加载重
  • 最高3炉/天

模块化转车系统

  • 1-12轴转车

软件

  • PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
  • 使用和维护简单
  • 现代化的用户界面,触摸屏菜单导航
  • 实时流程可视化,包括数据记录和数据管理
  • 手动和自动的过程控制
  • 远程诊断和维护

设备尺寸

  • 外观尺寸:5000 x 2200 x 2500mm (宽×深×高)

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