Pi111 PLUS G3是PLATIT第三代紧凑型PVD涂层设备。它的主要特点是快速的涂层运行周期,操作简便,用户友好和价格优惠-涂层性能不打折扣。该装置采用两支旋转阴极,利用ARC电弧技术,沉积选定的PLATIT代表性涂层,品质优良重复性高。
对于希望进入涂层领域或想要给已有的机器梯队增加一个快速周转小容量的PVD设备的客户,Pi111 PLUS G3是一个理想的选择。
Pi111 TRM 是最先进的 PVD 涂层设备,采用了 PLATIT 的双旋转磁控阴极技术。它的两个旋转溅射阴极采用先进的磁控技术,可提供高密度、无液滴的涂层,对于微小径刀具和铰刀或丝锥等高难度应用至关重要。Pi111 TRM 可确保卓越的涂层性能和灵活性。对于寻求快速、高效、具有最新技术且成本合理的溅射设备的制造商来说,Pi111 TRM是任何先进涂层生产的完美补充。
LARC® PLUS 相对于LARC®的优势:
几种蚀刻技术都可在PLATIT Pi111 PLUS G3涂层设备使用,各具优点:
PLATIT Pi111 涂层设备可采用多种蚀刻技术,具有各种优势:
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