Pi111 PLUS G3是PLATIT第三代紧凑型PVD涂层设备。它的主要特点是快速的涂层运行周期,操作简便,用户友好和价格优惠-涂层性能不打折扣。该装置采用两支旋转阴极,利用ARC电弧技术,沉积选定的PLATIT代表性涂层,品质优良重复性高。
对于希望进入涂层领域或想要给已有的机器梯队增加一个快速周转小容量的PVD设备的客户,Pi111 PLUS G3是一个理想的选择。
LARC® PLUS 相对于LARC®的优势:
几种蚀刻技术都可在PLATIT Pi111 PLUS G3涂层设备使用,各具优点: