PL711 è un'unità di rivestimento Sputter compatta basata sulla tecnologia HiPIMS (High Power Impulse Magnetron, magnetron sputtering a impulsi ad alta potenza). Dispone di due catodi HiPIMS planari e consente di depositare rivestimenti selezionati a base di nitruro e di carbonio (DLC2, DLC3) utilizzando processi altamente produttivi.
Il plasma denso ad alta ionizzazione nel carosello produce rivestimenti omogenei e un'elevata velocità di deposizione. I rivestimenti dell’unità PL711 forniscono superfici straordinariamente lisce, mantenendo un'elevata densità, durezza e un'eccezionale adesione.
Un'unità di rivestimento PL711 utilizza 2 catodi di Sputtering planari con tecnologia HiPIMS.
Nell'unità di rivestimento PLATIT PL711 possono essere utilizzate diverse tecnologie di etching, che offrono svariati vantaggi: