Pi411
由于其模块化设计和可用技术的范围，Pi411 PLUS是世界上最灵活的涂层设备。其基本配置为在门内安装三个旋转阴极的ARC电弧单元，可以在现场做模块化升级使用电弧或溅射中心阴极，也可以进行PECVD和OXI的工艺升级。本单元的独特之处还在于LACS®混镀技术，该技术允许同时使用电弧和溅射工艺过程来沉积涂层。
旋转阴极具有多种配置选项和灵活性，能够开发出高性能的定制专用涂层。因此，该涂层设备针对的客户群体是寻求将最大的灵活性和宽范围的涂层技术整合在同一台机器上灵活切换的设备。
配置：
ECO：
基本配置为门上安装3 支LARC®(侧向旋转阴极)，用于电弧沉积涂层
PECVD (DLC2)：
用于 a-C:H:Si 涂层
TURBO：
ECO + CERC®(中心旋转阴极)使用电弧技术，以提高生产率和实现最复杂的涂层
OXI：
用于白刚玉结构的氧化涂层
SCIL®(侧向辉光放电引发的溅射涂层)：
由侧向辉光放电诱发的高性能溅射涂层，来自中心阴极的高性能溅射涂层
混镀LACS®：
同时进行电弧和溅射过程，使用门上的LARC®和中心的SCIL®阴极，如 ta-C 涂层
运用到的刻蚀技术：
- LGD® (侧向辉光放电)
- Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
- 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
装载和运行周期:
- 最大涂层区域 [mm]：ø540 x H500
- 获得均匀涂层厚度的最大涂层高度：414mm
- 最大载重：200kg
- 最高5 炉/天
转车系统模式：
- 1-14 轴转车
软件：
- 使用和维护简单
- PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
- 现代化的触摸屏控制系统
- 工艺参数和流程的数据记录以及实时显示
- 手动和自动的过程控制
- 远程诊断和维护
设备尺寸：
- 外观尺寸[mm]：W2950 x D1900 x H2400