什么是涂层
涂层是保护性的薄膜，在以下方面改善基材的表面性能：
- 硬度
- 抗氧化性能
- 摩擦系数
- 断裂韧性
- 化学稳定性
例如，刀具涂层可以提高切削速度/进给量，以较低的成本提高刀具的生产率。
因此，基材的寿命得到了延长。
涂层工艺过程
1
进炉
装载涂层腔室
2
抽真空
在沉积PVD涂层时需要高真空。
涂层系统的抽真空过程分两个步骤进行：
- 旋片泵将真空腔室压力从100 mbar 抽到 10 -2 mbar
- 涡轮分子泵产生约1 x 10 -5 mbar 的高真空
3
加热
加热腔室，工艺温度约为150 - 500℃
4
等离子体刻蚀
PLATIT的涂层系统采用三种不同的蚀刻工艺一起工作：
- LGD®(侧向辉光放电)
- 氩气等离子体刻蚀，辉光放电
- 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
5
沉积涂层
采用 PVD (电弧、磁控溅射或 混镀LACS®技术) 或 PECVD 工艺过程进行涂层沉积
6
冷却
冷却涂层腔室
7
出炉
涂层腔室卸载
LGD® 刻蚀
LGD®(侧向辉光放电)是PLATIT涂层系统的专利蚀刻工艺
刻蚀发生在涂层过程之前，在LGD®过程中，两个阴极之间的电子流会产生高密度等离子体，这可以有效刻蚀复杂的表面和型腔，以及切削刃和刃尖(如滚刀和模具)。
档板：
- 通过点燃在挡板后面的靶材表面来清洁靶材，不会污染工具
- 在靶材清洗后开启挡板，为最佳结合力的获得创造了理想的条件
