首页 > 涂层应用 > 定制涂层设备

PL1001-DUO

基本信息

• 应客户要求而特制的设备

• 基于 PLATIT 平面阴极ARC电弧技术

• 高速钢和硬质合金上涂层 (T≤500°C)

硬件

• 可用的离化区域: Ø575 x H700 mm

• 2支 PLATIT平面矩形靶材,可快速更换,与PL1001 COMPACT阴极相匹配

• 是 PL1001 COMPACT设备的低成本版本

涂层应用:

Copyright © www.platit.com.cn All Rights Reserved 沪ICP备14047656号 service@platit.com.cn

技术支持:南京骏蝶科技有限公司