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π411

基本信息

• 紧凑型硬质涂层系统
• 基于PLATIT LARC® ,CERC® ,SCiL® 技术
　(侧向旋转阴极,中心旋转阴极技术和 LARC-GD®诱发溅射涂层)
• 工具钢(TS) 上沉积温度高于230 °C,
　高速钢 (HSS)上的涂层温度350 - 500°C 硬质合金 (WC)上的涂层温度 350 - 550 °C
• 用户可将设备重构为不同的阴极组合:
　A: 3个 LARC® 阴极和1个CERC® 阴极
　B: 3个 LARC® 阴极
　C: 3个 LARC® 阴极和1个SCiL® 阴极

涂层

• 单层，多层，纳米梯度，纳米多层，纳米复合结构, TripleCoatings3® , QuadCoatings4® , SCiL®-Coatings 及这些结构的组合

• 主要的标准涂层: AlCrN3®, nACRo4®,AlTiCrN4®

• 可实现所有 Triple Coatings3

• 可实现所有 QUAD Coatings4

• 可实现所有SCiL®-Coatings

硬件

• 设备外观尺寸: W2720 x D1721 x H2149 mm

• 真空腔室内部尺寸: W650 x D670 x H675 mm

• 可用的离化区域: Ø500 x H460 mm

• 最大基底载荷: 200 Kg

• 真空系统配有涡轮分子泵

• 革命性的柱状旋转阴极系统配有 3支 LARC® / 1支 CERC®

• 磁控线圈控制(MACC) 靶面ARC弧斑运动

• LARC®: 靶面ARC弧电流可达200 A

• 熟练操作者换靶时间大约为: 15-30 分钟 / 阴极

• CERC®: 靶面ARC弧电流可达300 A

• SCiL®: 溅射电源功率可达30 KW

• VIRTUAL SHUTTER® , TUBE SHUTTER® 虚拟挡板和柱状挡板技术用于所有的 LARC® 阴极

• 等离子体刻蚀:

• 气体离子刻蚀 (Ar/H ); 辉光放电2

• 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

• LGD®: LARC® 侧向旋转阴极辉光放电

• Pulsed BIAS 脉冲偏压供给 (350 kHz)

• 6 (+1) 气体通道, 6个MFC控制

• 加热器上使用的特殊的灰尘过滤网 (24 kW)

• 电力连接: 3x 400 V, 160 A, 50-60 Hz 总功率: < 76 kW

电气部分和软件

• 工业用PC和 PLC 控制系统

• 控制系统使用触屏操作菜单

• 可手动和自动控制程序

• 实时记录程序运行当中的各个参数值

• 远程诊断系统

• 不需具备编程知识即可进行程序控制

• CD-ROM光盘操作手册

生产运行周期

计算时间基于沉积标准厚度的涂层刀具:

• 圆柄状刀具(2 μm): ø 10 × 70 mm, 504pcs: 3.5h

• 刀片(3 μm): 　　　ø 20 × 6 mm, 2940 pcs: 4.0h

• 滚刀 (4 μm):　　　ø 80 × 180 mm, 28 pcs: 5.5h

高柔性大功率的涂层设备

• 4 支阴极可同时运行 3x LARC® 侧向旋转阴极 1x CERC® 中心旋转阴极

• 可沉积 QuadCoatings4®

• 高的沉积速率 • 快速的加热和冷却

• 短的运行周期 • 最多可运行 6 炉 / 天

高的装载能力

• 稳健且简易的进出炉操作

最佳的结合力

因具备有:

SCiL®- 选项

诱发溅射涂层

• SCiL-TiN, SCiL-TiCN 使用SCiL® 溅射阴极取代 CERC®

QuadCoating4®的态势分析曲线-程序

• 门对门的运行时间可降至 3.5 小时

涂层应用：

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