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π211

基本信息

• 用于沉积DLC (ta-C) 涂层的专用涂层系统 ®

• 基于PLATIT LARC 技术 (侧向旋转阴极技术)

• 涂层温度 50 - 500 °C

πsCOAT - 创新新技术

•πsmooth COATING: 直接沉积的电弧过滤技术

DLC3 涂层

• 标准涂层: VIc, cVIc, CROMVIc

• 用于沉积硬质氮化物涂层和DLC2涂层的设备配置在研发中

硬件

• 设备外观尺寸: W1890 x D1598 x H2619 mm

• 真空腔室内部尺寸: W450 x D320(460) x H615 mm

• 最大可涂层工件尺寸: Ø355 x H500 mm

• 可用的离化区域: Ø355 x H460 mm

• 最大基底载荷: 100 Kg

• 真空系统配有涡轮分子泵

• 革命性的柱状旋转阴极系统配有 2支 LARC®:

 • LARC® 靶材尺寸: Ø96 x 510 mm

 • 磁控线圈控制(MACC) 靶面ARC弧斑运动

 • 双层水冷不锈钢腔室和阴极

 • 熟练操作者换靶时间: 大约为15 分钟 / 阴极

• VIRTUAL SHUTTER® 虚拟挡板和TUBE SHUTTER® 柱状挡板技术

• LGD®: LARC® 辉光放电

• 等离子体刻蚀:

 • 气体离子刻蚀 (Ar); 辉光放电

 • 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)

• Pulsed BIAS 脉冲偏压供给 (350kHz)

• 在电控柜配有空调

• 5 (+1) 气体通道, 5 支MFC控制

• 电力连接: 3x 400V, 80A 外用保险丝 50-60Hz, 34kW

电气部分和软件

• 工业用PC和 PLC 控制系统

• 强大的操作软件

• 控制系统使用触屏操作菜单

• 可手动和自动控制程序

• 实时记录程序运行当中的各个参数值

• 远程诊断系统

• 不需具备编程知识即可进行程序控制

• CD-ROM光盘操作守则

生产运行周期

依据不同涂层温度,3 - 8小时不等

涂层应用:

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