硬件
• 设备外观尺寸: W1890 x D1500 x H2120 mm
• 真空腔室内部尺寸: W450 x D320(460) x H615 mm
• 最大可涂工件尺寸: Ø355 x H500 mm
• 可用的离化区域: Ø355 x H460 mm
• 最大基底载荷: 100 Kg
• 真空系统配有涡轮分子泵
• 革命性的柱状旋转阴极系统配有 2支 LARC®:
• LARC® 靶材尺寸: Ø96 x 510 mm
• 磁控线圈控制(MACC) 靶面ARC弧斑运动
• 双层水冷不锈钢腔室和阴极
• 熟练操作者换靶时间: 大约为15 分钟 / 阴极
• VIRTUAL SHUTTER® 虚拟挡板和TUBE SHUTTER® 柱状挡板技术
• LGD®: LARC® 辉光放电
• 等离子体刻蚀:
• 气体离子刻蚀 (Ar/H ); 辉光放电2
• 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
• Pulsed BIAS 脉冲偏压供给 (350kHz)
• 在电控柜配有空调 • 5 (+1) 气体通道, 5 支MFC控制
• 配有灰尘过滤器的特殊加热器(10 kW)
• 电力连接: 3x 400V, 100A 外用保险丝 50-60Hz, 30kW
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